三星電子4nm工藝良率已提高至75%以上
作者:熱點(diǎn) 來(lái)源:休閑 瀏覽: 【大 中 小】 發(fā)布時(shí)間:2025-11-26 20:31:27 評(píng)論數(shù):
7 月 12 日消息,星電三星電子 4 納米工藝的工藝高至良率目前已經(jīng)超過(guò) 75%,這引發(fā)了人們對(duì)于三星擴(kuò)大半導(dǎo)體代工客戶(hù)的良率合肥廬陽(yáng)約炮(約車(chē)模教練空姐)vx《189-4143》提供外圍女上門(mén)服務(wù)快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達(dá)猜測(cè)。
7 月 11 日,已提Hi Investment & Securities 研究員樸相佑在一份報(bào)告中表示:“三星電子近期成功地提高了 4nm 工藝的星電成品率”,并提高了“高通和英偉達(dá)再次合作的工藝高至可能性”。
此前,良率三星電子代工廠(chǎng)曾經(jīng)歷過(guò)產(chǎn)品上市延遲以及 10nm 以下工藝良率提升緩慢的已提情況,導(dǎo)致主要客戶(hù)紛紛轉(zhuǎn)向臺(tái)積電。星電合肥廬陽(yáng)約炮(約車(chē)模教練空姐)vx《189-4143》提供外圍女上門(mén)服務(wù)快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達(dá)結(jié)果,工藝高至去年臺(tái)積電的良率資本支出和產(chǎn)能分別是三星電子代工業(yè)務(wù)的 3.4 倍和 3.3 倍。
在 7nm 以下的已提先進(jìn)工藝方面,臺(tái)積電的星電市場(chǎng)占有率達(dá)到了 90%,這進(jìn)一步拉大了兩公司之間的工藝高至差距。
隨著三星電子今年 4nm 工藝成品率超過(guò) 75%、良率3nm 工藝成品率超過(guò) 60%,再加上臺(tái)積電漲價(jià)的影響,業(yè)界認(rèn)為三星有望再次奪回被臺(tái)積電搶走的客戶(hù),而且之前高通和英偉達(dá)等多位客戶(hù)也曾表示他們有必要將其外包生產(chǎn)進(jìn)行多元化。
根據(jù)三星代工在 SFF 2023 上公布的最新工藝技術(shù)路線(xiàn)圖,該公司計(jì)劃在 2025 年推出 2 納米級(jí)的 SF2 工藝,2027 年推出 1.4 納米級(jí)的 SF1.4 工藝。與此同時(shí),該公司還公布了 SF2 工藝的一些特性。
據(jù)了解,在擴(kuò)大技術(shù)供應(yīng)的同時(shí),三星仍然致力于擴(kuò)大其在韓國(guó)平澤和美國(guó)得州泰勒市的產(chǎn)能。
三星計(jì)劃于 2023 年下半年在其平澤 P3 線(xiàn)開(kāi)始量產(chǎn)芯片,而泰勒市新建廠(chǎng)房預(yù)計(jì)將于今年年底完工,并于 2024 年下半年開(kāi)始運(yùn)營(yíng)。三星目前的計(jì)劃是到 2027 年將其潔凈室容量比 2021 年增加 7.3 倍。
7 月 11 日,已提Hi Investment & Securities 研究員樸相佑在一份報(bào)告中表示:“三星電子近期成功地提高了 4nm 工藝的星電成品率”,并提高了“高通和英偉達(dá)再次合作的工藝高至可能性”。
此前,良率三星電子代工廠(chǎng)曾經(jīng)歷過(guò)產(chǎn)品上市延遲以及 10nm 以下工藝良率提升緩慢的已提情況,導(dǎo)致主要客戶(hù)紛紛轉(zhuǎn)向臺(tái)積電。星電合肥廬陽(yáng)約炮(約車(chē)模教練空姐)vx《189-4143》提供外圍女上門(mén)服務(wù)快速選照片快速安排不收定金面到付款30分鐘可到達(dá)結(jié)果,工藝高至去年臺(tái)積電的良率資本支出和產(chǎn)能分別是三星電子代工業(yè)務(wù)的 3.4 倍和 3.3 倍。
在 7nm 以下的已提先進(jìn)工藝方面,臺(tái)積電的星電市場(chǎng)占有率達(dá)到了 90%,這進(jìn)一步拉大了兩公司之間的工藝高至差距。
隨著三星電子今年 4nm 工藝成品率超過(guò) 75%、良率3nm 工藝成品率超過(guò) 60%,再加上臺(tái)積電漲價(jià)的影響,業(yè)界認(rèn)為三星有望再次奪回被臺(tái)積電搶走的客戶(hù),而且之前高通和英偉達(dá)等多位客戶(hù)也曾表示他們有必要將其外包生產(chǎn)進(jìn)行多元化。
根據(jù)三星代工在 SFF 2023 上公布的最新工藝技術(shù)路線(xiàn)圖,該公司計(jì)劃在 2025 年推出 2 納米級(jí)的 SF2 工藝,2027 年推出 1.4 納米級(jí)的 SF1.4 工藝。與此同時(shí),該公司還公布了 SF2 工藝的一些特性。
據(jù)了解,在擴(kuò)大技術(shù)供應(yīng)的同時(shí),三星仍然致力于擴(kuò)大其在韓國(guó)平澤和美國(guó)得州泰勒市的產(chǎn)能。
三星計(jì)劃于 2023 年下半年在其平澤 P3 線(xiàn)開(kāi)始量產(chǎn)芯片,而泰勒市新建廠(chǎng)房預(yù)計(jì)將于今年年底完工,并于 2024 年下半年開(kāi)始運(yùn)營(yíng)。三星目前的計(jì)劃是到 2027 年將其潔凈室容量比 2021 年增加 7.3 倍。
